HFE 7200 Cas 163702 06 5 na čistenie polovodičov Tel:+086-592-5803997

Ako fluórované rozpúšťadlo ďalšej{0}}generácie HFE 7200 nastavuje meradlo pre presné čistenie v prostrediach, kde sa o absolútnej spoľahlivosti nedá-vyjednávať. Je navrhnutý s ultra-vysokou čistotou, výnimočnou kompatibilitou materiálov a rýchlym{5}}vyparovaním bez zvyškov a rieši tie najnáročnejšie výzvy pri čistení vo výrobe polovodičov, optike, elektronike a medicínskych prístrojoch.

Čistenie polovodičov: HFE 7200 poskytuje konzistentný, opakovateľný výkon bez ohrozenia integrity substrátu, od odstraňovania zvyškov leptania nano-na doštičkových substrátoch až po jemné čistenie citlivých optických šošoviek a lekárskych endoskopov. Jeho nehorľavý charakter a nízka toxicita z neho robia bezpečnú voľbu pre automatizované systémy odmasťovania parou aj manuálne čistiace procesy, pričom jeho environmentálny profil je v súlade s globálnymi smernicami o udržateľnosti.

Tam, kde konvenčné rozpúšťadlá zaostávajú, HFE 7200 vyniká - a zabezpečuje, že kritické komponenty spĺňajú najvyššie štandardy čistoty, funkčnosti a dlhej životnosti.

Hlavné výhody HFE 7200 Tel:+086-592-5803997

Kľúčové aplikácie HFE 7200 Tel:+086-592-5803997

1. Mokré čistenie zariadení na leptanie polovodičov; Čistenie tekutých kryštálov a komponentov pevného disku
HFE 7200 sa vo veľkej miere využíva v pokročilých procesoch mokrého čistenia pri výrobe polovodičov, najmä pri odstraňovaní zvyškov po-leptaní z doštičiek a komponentov komôr. Jeho výnimočná čistota, nízke povrchové napätie a rýchle vyparovanie zaisťujú dôkladné čistenie bez zanechania iónových alebo časticových nečistôt. V priemysle zobrazovania a ukladania údajov je rovnako účinný na čistenie jemných LCD panelov a komponentov pevných diskov (HDD), pričom zachováva optickú čistotu a mechanickú presnosť a zároveň odstraňuje oleje, častice a organické zvyšky.

2. Čistenie laserového zariadenia a čistenie optických šošoviek
Vďaka svojim -nekorozívnym vlastnostiam a vlastnostiam bez zvyškov{1}} je HFE 7200 ideálny na údržbu vysoko-výkonných optických systémov. Bezpečne odstraňuje prach, odtlačky prstov a povlaky z laserovej optiky, šošoviek, zrkadiel a senzorov bez poškodenia anti-reflexných alebo špeciálnych povlakov. Jeho rýchloschnúca povaha-zabraňuje vzniku pruhov, zaisťuje optimálnu priepustnosť svetla a presnosť systému v kritických aplikáciách, ako je litografia, rezanie laserom, lekárske zobrazovanie a vedecké prístroje.

3. Čistenie presných elektronických komponentov
HFE 7200 slúži ako vysoko spoľahlivé rozpúšťadlo na odmasťovanie a odstraňovanie taviva z citlivých elektronických zostáv, vrátane dosiek plošných spojov (PCB), konektorov, relé a mikroelektromechanických systémov (MEMS). Jeho nízka toxicita a vynikajúca materiálová kompatibilita umožňujú bezpečné použitie na plastoch, elastoméroch a kovoch, čím zabraňuje opuchu, praskaniu alebo elektrickej degradácii a zároveň zaisťuje vysokú dielektrickú spoľahlivosť.

4. Letectvo a zdravotníctvo (čistenie lekárskych šošoviek, špeciálne citlivé materiály)
V letectve sa HFE 7200 používa na čistenie avioniky, navigačných systémov a citlivých kompozitných materiálov bez ovplyvnenia ich štrukturálnych alebo elektrických vlastností. Pri výrobe a údržbe zdravotníckych pomôcok sa používa na čistenie šošoviek endoskopov, chirurgických nástrojov, diagnostických senzorov a iných biokompatibilných komponentov, kde sú prvoradé sterilita, nereaktivita a nulové zvyšky.

5. Krása a kozmetické aplikácie (odličovač/odličovač, pleťové masky)
V kozmetických prípravkoch pôsobí HFE 7200 ako prchavý nosič alebo rozpúšťadlo v produktoch, ako sú líčidlá na dlhé nosenie, vodeodolné odstraňovače mejkapu a masky. Jeho jemné,-dráždivé vlastnosti a rýchle odparovanie pomáhajú dodávať aktívne zložky rovnomerne bez zanechávania mastných zvyškov, čím zlepšujú používateľský zážitok a stabilitu produktu.

6. Čistiace a oplachovacie prostriedky na odmasťovanie parou
HFE 7200 je preferované rozpúšťadlo v systémoch na odmasťovanie parou s uzavretým-cyklom na odstraňovanie olejov, tukov a voskov z kovových, keramických a polymérových dielov. Nízky bod varu a vysoká stabilita umožňujú účinnú kondenzáciu a regeneráciu, čím sa minimalizuje spotreba rozpúšťadla a vplyv na životné prostredie, pričom sa dosahuje čistota priemyselnej-triedy.

7. Nosič maziva
Ako nosná kvapalina v špeciálnych mazivách a zmesiach proti zadieraniu uľahčuje HFE 7200 rovnomernú aplikáciu mazacích častíc alebo prísad do zložitých mechanických zostáv. Po aplikácii sa rýchlo vyparuje a zanecháva jednotný tenký mazací film bez priťahovania prachu alebo zasahovania do tolerancií.

8. Špecializované rozpúšťadlo, disperzné médium, reakčné médium a extrakčné rozpúšťadlo
HFE 7200 sa používa vo výskume a vývoji a pri vysoko{1}}chemických procesoch ako inertné médium na dispergovanie nanomateriálov, vykonávanie kontrolovaných chemických reakcií alebo extrakciu citlivých zlúčenín. Jeho chemická stabilita, nepolarita{3}}a nízka reaktivita ho predurčujú na manipuláciu s pokročilými materiálmi, liečivami a čistými chemikáliami.

9. Náhrada za CFC, HCFC, HFC a PFC
HFE 7200 ako ekologicky zodpovedná alternatíva k rozpúšťadlám, ktoré -poškodzujú ozónovú vrstvu a rozpúšťadlá s vysokým{1}}globálnym{2}}potenciálom{3}}otepľovania (GWP), ponúka porovnateľný alebo lepší výkon s nulovým potenciálom poškodzovania ozónovej vrstvy (ODP) a výrazne nižším GWP. Podporuje súlad s medzinárodnými environmentálnymi predpismi, ako sú Montrealský a Kjótsky protokol.

10. Kvapalina na prenos tepla
HFE 7200 sa používa v jednofázových alebo dvojfázových chladiacich systémoch elektroniky, laserových systémov a laboratórnych zariadení. Jeho tepelná stabilita,-nehorľavosť a dielektrické vlastnosti umožňujú efektívne a bezpečné odvádzanie tepla v aplikáciách priameho-kontaktu alebo nepriameho chladenia vrátane ponorného chladenia pre vysoko-výkonnú výpočtovú a výkonovú elektroniku.

hFE 7200 Údajový list Tel:+086-592-5803997

Vzhľad a vlastnosti	Bezfarebná transparentná kvapalina	Zápach	Bez zápachu
Bod varu pri 1 atm	156-160 stupňov	Bod mrazu	-84,9 stupňa

hustota kvapaliny (25 stupňov)	1,810 g·ml^-1	Bod vzplanutia	Nie

dielektrická strata (10 MHz)	0.00418	objemový odpor	Väčšie alebo rovné 1,579 × 1011 Ω·mm
index lomu	1.308	koeficient objemovej rozťažnosti (20-80 stupňov)	5.420×10^-3

kinematická viskozita (25 stupňov)	3,05 mm2·s^-1	Špecifické teplo	1.151 J·g^-1·K^-1

koeficient tepelnej vodivosti (25 stupňov)	0.0656W∙m-1∙K^-1	povrchové napätie	17,51 mN·m^-1

dielektrická pevnosť (2,5 mm)	＞50,4 kV	dielektrická konštanta (1 MHz)	4.75

ODP	0	GWP	180